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VAD轴向气相沉积系统
ASI 公司轴向气相沉积系统(VAD 1.01)可在常压下垂直地进行化学沉积。系统可沉积锗掺杂二氧化硅微粒,用于制造单模光纤芯棒。
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ACD 双轴常压气相沉积系统
ASI 公司常压化学气相沉积系统(CD 2.01)可以高速沉积锗掺杂二氧化硅微粒。该系统可以同时制造两根芯预制棒。
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